稀土抛光液

稀土抛光液一般含有磨粒、分散剂、pH调节剂、氧化剂等成分。各种添加剂的选择和含量对抛光效果有很大的影响。抛光液具有技术含量高、保密性强、不可回收等特点，使其成为抛光过程中成本较高的部分。根据稀土抛光液中主要磨粒的不同，抛光液一般分为金刚石抛光液和氧化铝抛光液、氧化铈抛光液、氧化硅抛光液等类型。

金刚石抛光液的磨料主要是聚晶金刚石粉，抛光时能保持较高的切削速度，不易划伤磨料。目前主要用于蓝宝石、LED芯片等的抛光。

氧化铝抛光液以超细氧化铝为磨料，大多数使用的颗粒是微米和亚微米。通常用于抛光陶瓷、硬盘基板、光纤连接器等。

氧化铈抛光液是一种以氧化铈颗粒为磨料的高性能抛光液。根据制备工艺的不同，可以获得不同强度和尺寸的氧化铈颗粒，主要有微米级和纳米级。广泛应用于普通玻璃、光学玻璃、高精度光学仪器、晶体表面、半导体元件等范围广泛的器件。

氧化硅抛光液是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的高纯低金属离子抛光产品。常用于硅片和高精度光学仪器的抛光。